電鏡用鍍膜儀的主要功能及技術參數

點擊次數：802 更新時間：2021-06-25

　　電鏡用鍍膜儀可以提供噴碳和濺射兩種工作模式。此外，係統配有膜厚晶振儀，可以對膜厚進行準確的控製。設備采用觸摸屏控製，過程全自動操作。

　　電鏡用鍍膜儀配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發鍍膜機後，可以在全自動化係統中獲得*可重複的結果，實現了一台EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微係統在一台儀器中提供可互換機頭的組合儀表。各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉、輝光放電和可交換屏蔽共同構成這台低真空鍍膜機。

　　電鏡用鍍膜儀的技術參數：

　　可任選離子濺射模式、碳絲蒸發鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電(用於網格表麵親水化)

　　設計脈衝式碳絲蒸發方式，可準確控製碳膜厚度

　　可選石英膜厚檢測器，準確控製鍍膜厚度，精度達0.1nm

　　全自動程序控製，自動完成抽真空，鍍膜，放氣等過程

　　觸摸屏控製，簡單方便

　　真空度7×10-3mbar

　　濺射電流：0-150mA可調

　　方形樣品倉設計，樣品倉尺寸：140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)

　　工作距離調節範圍：30mm-100mm

　　電鏡用鍍膜儀的技術指標：

　　薄膜沉積模式：噴碳，以及濺射(Pt等)

　　係統真空度： 10-6mbar

　　濺射靶材直徑： 54mm

　　碳絲蒸發較大功率： 700W

　　濺射電流： 15～150mA

上一篇：體視顯微鏡常見故障原因及處理方法

下一篇：體視顯微鏡如何保養與維護?