如何正確使用真空鍍膜儀

點擊次數：796 更新時間：2023-07-10

　　真空鍍膜儀是一種廣泛應用於工業和科研領域的設備，主要用於製備各種材料的薄膜。在使用真空鍍膜儀時需要注意以下幾點：

　　1. 操作規範

　　使用真空鍍膜儀前，需要先認真閱讀相關操作手冊，並嚴格按照指示進行操作。如對設備不熟悉或存在問題，請及時與廠家聯係。

　　2. 安全措施

　　真空鍍膜儀屬於高壓、高溫、低溫等危險性較大的設備，必須采取相應安全措施避免意外事故發生。例如，在打開反應室門之前，需要確保機器內部冷卻；同時還需注意氣體或液態化學物品的存放位置等安全問題。

　　3. 碳汙染控製

　　在使用過程中要特別關注因碳源揮發而產生的碳汙染現象，這會影響到預定目標沉積速率和化學組成分析結果等方麵。為了解決這個問題可以選擇合適材質表麵處理方法並設置比較高密度電弧離子束來加速清除殘留碳氫基團。

　　4. 清潔設備

　　在使用真空鍍膜儀過程中，需要保持設備的清潔和整潔，盡量避免機器內部積存汙物或雜質。這不僅有利於維護設備的正常運行，還可以防止對反應產物造成影響。

　　5. 充分預熱

　　為了確保沉積過程能夠順利進行，在啟動真空鍍膜儀之前，需要先進行充分預熱以達到所需溫度條件。此外，在加樣前也應該預留足夠時間讓加入氣體等待排放後再開始實驗操作。

　　6. 合適材料選擇

　　根據不同應用目標和要求、基片類型及其形狀等因素來確定合適的沉積原料與介質組成份比例。同時還需考慮到不同金屬元素/化合物間相互作用及晶格匹配性問題來提高生長速率並控製薄膜微觀結構。

　　7. 玻璃表麵處理

　　如果需要在玻璃表麵上製備功能性塗層時，則必須采取一些特殊處理方法以改善反射率和吸收效果，並增強粘附力和耐久性。通常采用離子束輔助沉積或者氣力噴射等技術來優化處理效果。

　　在使用真空鍍膜儀時需要關注這些方麵的問題，從而確保實驗結果準確可靠，同時也為設備的長期使用提供了有效保障。